Pó de boro cristalino 5N 6N para semicondutores
O boro cristalino é um importante aditivo funcional inorgânico na indústria. Trata-se de boro elementar na fase β, com uma estrutura cristalina icosaédrica rômbica. Possui uma forte inércia química, elevada dureza mecânica e elevado ponto de fusão. O boro cristalino existe tanto na forma granulosa como em pó, e apresenta uma coloração cinzento-escura. É amplamente utilizado em indústrias como a de semicondutores, ótica, baterias térmicas e materiais cerâmicos em pó.
O tamanho normal das partículas do pó de boro CRISTALINO que fornecemos é de 15 a 60 μm; o tamanho convencional dos grãos de partículas de boro CRISTALINO é de 1 a 10 mm (os tamanhos de grãos especiais podem ser personalizados de acordo com as necessidades do cliente), geralmente divididos em cinco especificações de pureza: 2N, 3N, 4N, 5N e 6N.
Índice de produtos:
| Fórmula molecular: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Densidade | 2,3 g/cm³ |
| Fase | Fase β-B |
| Ponto de fusão | 2300°C |
| Ponto de ebulição | 2550°C |
| Dureza de Mohs | >9 |
| Massa atómica relativa | 10,81 |
| Isótopos estáveis | 10 B, 11 B |
| Cor | Cinza escuro, preto |
Composição química:
| Produtos químicos | 2N BÓRON CRISTALINO | 3N BÓRON CRISTALINO | 4N BÓRON CRISTALINO | 5N BÓRON CRISTALINO | 6N BÓRON CRISTALINO |
| B | ≥99% | ≥99,9% | ≥99,99% | ≥99,999% | ≥99,9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| No | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| No | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Com | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Chumbo | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Que | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| Como | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| EM | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Tamanho e embalagem típicos:
| CONTEÚDO DE BORO | TAMANHO TÍPICO | Pacote |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | Acondicionado em sacos de alumínio a vácuo, com 1kg/5kg (apenas o nanopó é selado, sem vácuo). |
| 99,9 | -200 Mesh, 0-10 μm, 1-10 mm | Tipo em pó: 1kg/5kg/ embalado em saco de alumínio a vácuo, Tipo granulado: 50g/500g/1000g embalados em frasco de PP, preenchido com proteção de gás inerte. |
| 99,99 | -200Malha, 1-10mm | Acondicionado em frasco de PP de 50g/100g, selado com gás inerte. |
| 99,999 | ||
| 99,9999 |
Aplicação:
- Aplicações do boro cristalino na indústria nuclear:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors, primarily to compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns, thus maintaining stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy, thereby ensuring the safety of the nuclear energy system.
- Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon, the conductivity properties of silicon can be altered, thereby manufacturing semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
- Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
- In High-Hardness Ceramic Materials:
Crystalline boron can also be used to prepare high-hardness materials, such as boron carbide (B4C) and graphite boron compounds (Bg). Boron carbide is an extremely hard ceramic material with excellent wear resistance and high-temperature resistance, and is therefore widely used in the manufacture of bulletproof armor, hard tools, abrasives, and wear-resistant ceramics. Graphite boron compounds are materials with a graphite-like structure, exhibiting high electrical conductivity and thermal stability, and can be used to prepare high-performance conductive binders, thermally conductive materials, and friction materials.
- Applications of Crystalline Boron in Thermal Batteries:
As baterias térmicas são baterias de armazenamento monofásicas ativadas termicamente que utilizam sal fundido como eletrólito. Apresentam vantagens como tamanho reduzido, peso leve, longa vida útil, operação livre de manutenção, ativação rápida e fiável e ampla gama de temperatura de operação, sendo amplamente utilizadas em dispositivos de ignição de algumas armas estratégicas e convencionais. O material do ânodo de uma bateria térmica desempenha um papel decisivo na sua capacidade, volume e potência de saída. Os materiais de ânodo para baterias térmicas evoluíram dos materiais de partida à base de magnésio e cálcio para os materiais atuais à base de lítio. Entre estes, os compósitos de lítio-boro (Li-B) apresentam vantagens assinaláveis, como a elevada densidade de energia, a elevada potência de saída, a baixa polarização, o potencial eletroquímico próximo do lítio puro e a estabilidade a temperaturas superiores a 600 °C. É o material de ânodo mais promissor para baterias térmicas e está a ser gradualmente aplicado em baterias térmicas de alta tecnologia.
- Boro cristalino na indústria militar:
O boro cristalino pode ser utilizado para fabricar materiais balísticos cerâmicos de boro de alta pureza, agentes retardantes de boro de alta pureza, fluxos de soldadura de boro de alta pureza, explosivos de boro de alta pureza e propelentes de foguete ricos em combustível e pobres em oxigénio, todos à base de boro de alta pureza.
- No fabrico de ligas metálicas:
Liga de cobre-boro de alta pureza, liga de titânio-boro de alta pureza, aço policristalino de boro de alta pureza, ferramentas superduras e resistentes ao desgaste de boro de alta pureza, chapas de aço resistentes à corrosão de boro de alta pureza, liga de níquel-boro de alta pureza, liga de cromo-boro de alta pureza, liga de lítio-boro (um novo material para baterias), liga supercondutora de boro-magnésio.
- Aplicações do boro cristalino na indústria aeroespacial:
O pó de boro cristalino de alta pureza pode ser utilizado como material de nanorrevestimento. Através da tecnologia de pulverização catódica, o material em pó é depositado sobre a superfície de um substrato, tornando os componentes resistentes ao desgaste, à corrosão, a altas temperaturas, à oxidação e às intempéries. Este satisfaz os requisitos dos motores submetidos às condições de serviço extremamente severas da indústria aeroespacial e de aviação, além de poder satisfazer requisitos específicos em optoelectrónica e outros campos.
